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       在做低含量元素或者痕量元素的光譜定量分析時，由于譜線很弱，光強值很低,若背景的強度疊加在上面，不予扣除，必然導致分析結果不準。

       光譜分析背景的來源很多，大致有以下幾方面:

(1)有些金屬元素如鋅、鉛、鎂、鋁的譜線都有很強的擴散線形成背景。

(2)在光源作用下，樣品與周圍的空氣產生氧化物及氮化物輻射帶狀的分子光譜,也形成背景。例如氰的帶狀光譜。

(3)由熾熱的電極頭或弧焰中的固體質點所發射的連續光譜,也形成背景。

(4)在電流密度很大時，有的元素(例如鋁)的光譜中出現連續背景，在紫外域強度很大。

(5)離子復合過程而產生的輻射也形成背景。在使用火花光源時，這種背景較強。既然有許多原因都能使光譜中形成背景，首先應考慮避免背景產生。為避免分子光譜的背景，可以使用惰性氣氛控制激發。當出射狹縫增寬時,背景增大,所以為了減少背景，應當選用合適寬度的狹縫。采取這些措施，但背景的影響不可能完全清除。

直讀光譜儀分析元素

       如【測量的譜線】落在背景中，則【元素的譜線強】度是由【譜線強度】及【背景強度】疊加的結果。若考慮【光強比值】原來的相對強度是【光譜強度】除以【I_O】，顯示相對強度有所改變。即使分析線及內標線的背景相同，則仍然有不同的光譜強度，所以必須扣除背景。

       由此可以看出，內標線上有背景則使工作曲線產生一定的平行移動，因此在固定的條件下可以不扣除背景。最重要的是出射狹縫固定不變，因此背景強度是隨狹縫寬度而改變的?？鄢V線上的背景有個原則，就是只能按強度相減。

       在火花直讀光譜分析中，使用專門的背景通道測量背景。在硬件排列順序中,輸人“BKC" 作為通道的名稱，“BKG" 的波長為175.7nm使用R166或R427以及R1657PMT。沒有背景通道，則不能使用背景校準。

       在持久校正曲線中，背景在校正曲線中用D來表示。D值與背景有關。在直流電弧中分析很低的濃度時，選用專門的背景通道作為動態背景校正。因為在分析間隙中,電弧的移動將引起背景的波動。在此情況下，背景使元素的強度加大,有時背景和分析信號幾乎相等，測量可用下式表示:測量強度=強度(元素) +強度(背景)。

       如果元素強度等于背景強度，則需要背景校正。在某些情況下，甚至在很低的濃度時，元素強度大大超過背景強度，或者在火花發射光譜分析中,背景可看做常數，因此，可不必利用背景通道。如果背景達到一定的級別，對于這么大的背景，濃度的讀數必須進行校正，校正背景公式如下：濃度(校正) =濃度(讀數) -[強度比(背景) - BKG基準強度]，對低含量的通道來講，背景強度比值沒有達到基準強度級別，則不必進行校準。如果背景達到一定的強度，含量必須用不同倍數的系數調整。

       (1)背景校正系數f的計算。選用一個低含量的樣品(這個含量條件下背景的影響較大)，進行6次曝光，并測定其強度比。為了提高分析結果的準確度，原則上應該扣除背景。但是往往在扣除背景的測量和計算過程中引進已附加的分析誤差。因此，應盡可能不扣除背景，只有在由于背景嚴重影響分析準確度時，才予以扣除。